等離子清洗機，顧名思義，是通過等離子體來實現清洗的設備。那什么是等離子體呢。等離子體是一種高能帶電的氣體，可以通過加熱氣體或者施加高壓電場等方式產生。因為等離子具有高能量和高活性，可以有效擊穿器件表面的氧化物和有機物，使其腐蝕分解成氣體或者被吸附走。以此來達到精密清洗的目的。等離子清洗機又分為真空等離子清洗機和大氣等離子清洗機。

大氣等離子清洗機適用于體積較大的金屬、塑料、陶瓷等。清洗速度較快，但其清洗效果和清洗范圍受到氣流噴射壓力和角度的限制。占地較大設備較為昂貴。

真空等離子清洗機在輝光范圍內可以清洗到細小夾縫內部的污染物，清洗效果好，不會留下清洗痕跡適用于體積小的更精密的器件清洗，比如PCB制程、元器件封裝前、半導體、鍍膜工藝、實驗室測試等。設備占地面積小，價格低。

真空等離子清洗機的選擇需要注意腔體的大小、同真空氣體環(huán)境下的匹配程度，頻率是否穩(wěn)定等，真空倉門是否有觀察窗可直觀物體的處理過程。

真空等離子清洗機的配置也決定了在使用過程中的清洗效果。皮拉尼真空計可以提供更高的真空度環(huán)境，質量流量計和進口的氣體傳感器可以更精確的控制進氣流量。石英腔體可以提供更高的潔凈度等。

總體來說，?選擇使用哪種等離子清洗機取決于具體的清洗需求和應用場景。?大氣等離子清洗機適合對速度和成本有較高要求的簡單表面處理，?而真空等離子清洗機則更適合對清洗效果有較高的要求的清洗。